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辛煜 教授

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辛 煜,教授,博士,硕士生导师。

 

1996年毕业于苏州大学物理系;

02年取得凝聚态物理博士学位;

03年在南京大学物理系从事博士后的研究工作。

主要参加了江苏省教委基金、省自然基金、国家自然科学基金等项目的研究,参加过863-804主题子项目。

主持过两项项国家自然科学基金项目。

作为主要负责人参加了一项国家自然科学基金重点项目和一项省高校重点项目。

现主持一项省科技厅前瞻性产学研联合项目。

获得过苏州市科技进步二等奖,省教委自制仪器评比二等奖,省科技进步三等奖。

目前主要进行低温等离子体源技术和低温等离子体物理与基片刻蚀的研究工作。

在国内外学术期刊上发表论文60余篇,大部分为SCIEI所收录,获得国家发明专利和实用专利各一项。

 

研究兴趣与招生方向:

 

凝聚态物理

材料物理与化学

材料表面与等离子体相互作用

 

A. 项目资助情况:

1).多线圈大面积感应耦合等离子体的耦合特性和均匀性研究,国家自然科学基金项目,项目编号10305008,(2004.1-2006.12),负责人,已结题;

2).甚高频阵列式容性耦合等离子体源的放电特性及均匀性研究,国家自然科学基金项目,项目编号10775103,(2008.1-2010.12),负责人,已结题;

3).低气压多频等离子体与材料表面的相互作用,国家自然科学基金项目,项目编号106350102007.1-2010.12),该课题为大连理工大学、苏州大学、中国科技大学相关课题组的联合课题,本人在本校课题组中排名第二;

4).亮铬的感应耦合等离子体刻蚀工艺开发,横向课题,项目编号:07108012007.1-2007.12),经费来源:苏大维格数码光学科技有限公司,负责人,已完成;

5).大面积栅型射频感应耦合等离子体在太阳能电池片表面织构化的应用研究,江苏省省科技厅前瞻性产学研联合创新资金项目,项目编号:BY20101252010.7-2012.6),负责人,课题进行中;

6).氟、氯基射频等离子体在多晶硅电池片表面制绒的应用研究,国家自然科学基金项目,项目编号:11175127,(2012.01-2015.12),负责人,进行中。

 

B.专利与获奖情况:

1).辛煜 施毅 左则文 宁兆元 一种用于大面积薄膜生长的真空等离子体反应器发明专利:专利号:ZL 2007 1 0134954.1

2).辛煜,宁兆元,大面积并联高密度感应耦合等离子体发生装置,实用新型专利号:ZL 2006 200669635.8

3).宁兆元,吴雪梅,叶超,辛煜,江美福,诸葛兰剑,多频等离子体和离子束沉积多种微纳电子薄膜材料,江苏省科技进步奖三等奖,证书号:2008-03-078-04

 

C.近期发表论文:

1).孙恺*,辛煜,黄晓江,袁强华,宁兆元,60MHz电容耦合等离子体中电子能量分布函数特性研究,物理学报 57, 6465 (2008).

2).狄小莲*,辛煜,宁兆元,天线的几何结构对感应耦合等离子体功率传输效率的影响,物理学报 55, 5311 (2006).

3).辛煜,狄小莲,宁兆元,虞一青,多源感应耦合等离子体的产生及其等离子体的诊断,物理学报 55, 3494 (2006).

 

1).Y. Q. Yu*, Y. Xin, Z. Y. Ning, A simplified collisional-radiative model for characterization of a low pressure capacitively coupled argon plasma, Chinese Physics B 20(2011)015207

2).Y. Q. Yu*, Y. Xin, W. Q. Lu, Z. Y. Ning, Investigation on capacitively coupled argon plasma driven by dual frequency with different frequency configurations, Plasma Science and Technology,13 (2011)571-574

3).L. Yang*, Y. Xin, H. Xu, Y. Yu, Z. Y. Ning, Effect of discharge parameters on properties of DLC films prepared by dual-frequency capacitively coupled plasma source, Plasma Science and Technology, 12(2010)53

4).X. J. Huang*, Y.Xin, L. Yang, C. Ye, Q. H. Yuan, Z. Y. Ning, Analysis of optical emission spectroscopy in a dual-frequency capacitively coupled CHF3 plasma, Physics of Plasmas, 16,043509(2009)

5).Q. H. Yuan*, Y. Xin, G. Q. Yin, X. J. Huang, K. Sun, Z. Y. Ning, Effect of low frequency power on dual-frequency capacitively coupled plasmas, J. Phys. D: Appl. Phys., 41(2008)205209

6).Y. Xin, X. J. Huang, Z. Y. Ning, Response to comment on ‘ influence of exciting frequency on gas and ion rotational temperatures of nitrogen capacitively coupled plasma’, Phys. Plasmas, 15,104702(2008)

7).Y. Xin, Y. Shi, H. Liu, etc., Effect of NH3 flow rate on growth structure and luminescence of amorphous silicon nitride by electron cyclotron resonance plasma, Thin Solid Films, 516(2008)1130-1136

8).X.J. Huang*, Y. Xin, Q.-H. Yuan, and Z.-Y. Ning, Influence of exciting frequency on gas and ion rotational temperatures of nitrogen capacitively coupled plasma, Physics of Plasmas 15, 073501 (2008).

9).X.J. Huang*, Y. Xin, L. Yang, Q.-H. Yuan, and Z.-Y. Ning, Spectroscopic study on rotational and vibrational temperature of N2 in dual-frequency capacitively coupled plasma, Physics of Plasmas 15, 113504 (2008).

10).Q.H. Yuan*, C. Ye, Y. Xin, X. -J. Huang, Z.-Y. Ning, and G.-Q. Yin, Control of the discharge chemistry of CHF3 in dual-frequency capacitively coupled plasmas, Applied Physics Letters 93, 071503 (2008).

11).S. Huang*, Z.-Y. Ning, and Y. Xin, Langmuir probe measurements in inductively coupled CF4 plasmas, Surface and Coatings Technology 200, 3963 (2006)

 

联系方式:

0512-67872902,13913549830

xylzf_1999@suda.edu.cn

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