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等离子体CVD室

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1. 微波电子回旋共振等离子体系统(ECR)

该系统由本实验室设计、中国科学院沈阳科学仪器中心制造。系统可用于等离子体性能分析、介质薄膜沉积、材料的等离子体处理。系统为电磁线圈型ECR系统,微波源频率为2.45GHz,功率在300 – 1000 W之间可调,系统本底真空为1.0´10-3 Pa,两路质量流量计调节的进气系统,基片可加直流、射频偏压。系统配置了静电探针、发射光谱、四极质谱在线分析设备。

 

             

 

 

2. 双频电容耦合等离子体系统(DF-CCP)

该系统由本实验室设计、中国科学院沈阳科学仪器中心制造。系统可用于等离子体性能分析、介质薄膜刻蚀与沉积、材料的等离子体处理。系统采用电容耦合模式,为60MHz/2MHz双频率功率源驱动的等离子体系统,功率在0 – 500 W之间可调,系统本底真空低于1.0´10-3 Pa,四路质量流量计调节的进气系统。系统配置了静电探针、发射光谱、四极质谱在线分析设备接口。

 

              

 

 

安全负责人:叶超 教授

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